Sabbia abrasiva di allumina fusa con zirconia per l’incisione di monumenti nel mercato statunitense e canadese.

Sabbia abrasiva di allumina fusa con zirconia per l’incisione di monumenti nel mercato statunitense e canadese.
La sabbia abrasiva di allumina fusa con zirconio (ZA) , in particolare quella con il 25% di zirconio, è un abrasivo elettrofuso ad alte prestazioni sviluppato professionalmente per l’incisione di precisione di monumenti e la finitura di superfici lapidee. Prodotta tramite fusione elettrica ad alta temperatura e rigorosi processi di classificazione delle particelle, questa allumina fusa con zirconio presenta una struttura cristallina compatta, un’eccellente tenacità, una durezza superiore e un’eccezionale capacità di autoaffilatura. Rispetto alla tradizionale allumina fusa marrone e agli abrasivi comuni, l’abrasivo ZA ha una maggiore resistenza agli urti e un minore tasso di rottura durante la sabbiatura ad alta pressione, il che lo rende il materiale abrasivo ideale per la lavorazione di lapidi e monumenti di alto livello.
Utilizzato principalmente per l’incisione di monumenti e granito, questo abrasivo è ampiamente impiegato per l’incisione profonda di motivi, l’incisione di lettere, l’opacizzazione delle superfici, la rimozione della ruggine e la finitura uniforme della texture su granito, marmo e altri materiali lapidei naturali. La sua distribuzione uniforme delle dimensioni delle particelle garantisce linee di incisione nitide, una texture superficiale delicata e l’assenza di scheggiature o graffi sui prodotti in pietra. Risolve efficacemente i problemi comuni di sabbiatura irregolare, facile rottura delle particelle e superficie ruvida della pietra causati dagli abrasivi ordinari, migliorando notevolmente la qualità della finitura di lapidi commemorative di alta gamma.
Progettata su misura per il mercato della lavorazione della pietra negli Stati Uniti e in Canada, la nostra allumina fusa con zirconio è pienamente conforme agli standard locali di sicurezza industriale e di tutela ambientale. Non contiene silice libera, produce meno polvere durante l’utilizzo e consente lavori di sabbiatura continui e prolungati per grandi stabilimenti di lavorazione della pietra e laboratori di incisione. Nel settore dei monumenti nordamericani, dove sono richiesti elevati standard di precisione e risultati di finitura stabili, l’abrasivo ZA si è gradualmente affermato come alternativa principale agli abrasivi tradizionali grazie alla sua lunga durata e alle prestazioni di lavorazione costanti.
Offriamo granulometrie standardizzate e stabili, nonché specifiche personalizzabili, per soddisfare le diverse esigenze di incisione e trattamento superficiale nei mercati statunitense e canadese. Grazie alla qualità affidabile, ai prezzi competitivi e alla consolidata capacità di fornitura per l’esportazione, il nostro abrasivo in ossido di zirconio e allumina fusa è diventato una scelta di alta gamma affidabile per i produttori locali di monumenti e le aziende di lavorazione della pietra.

ANALISI CHIMICA TIPICA [%]

Elementi Al2O3 ZrO2 TiO2 Fe2O3 SiO2
ZA25 68-72 24-30 ≤1,5 ≤0,5 ≤1,0
ZA40 55-57 35-44 ≤1,5 ≤0,5 ≤1,0

PROPRIETÀ FISICHE

Forma cristallina Sistema monoclino tetragonale
Reazione con acidi e basi NO
Reazione con il carbonio Formazione di carburi dal 1650°C
Colore Grigio
Densità reale 4,20 g/cm³
Densità apparente 2,18 g/cm³
Durezza di Mohs 9.0
durezza Knoop 1450-2000 kg/cm2
Punto di fusione 1900C
Temperatura massima di servizio  1700C
Capacità termica specifica (cal/g°C) 0,2205(50-500°C)
conducibilità termica 0,2718 cal/cm2.sec.C
Espansività lineare (X10⁻⁶) 6,82 (100-700 °C)

DISTRIBUZIONE DELLE DIMENSIONI DELLE PARTICELLE

F4 +8000 µm 0 +5600 µm ≤20% +4750 µm ≥40% +4750+4000um ≥70% -3350 µm ≤3%
F5 +6700 µm 0 +4750 µm ≤20% +4000 µm ≥40% +4000+3350um ≥70% -2800 µm ≤3%
F6 +5600 µm 0 +4000 µm ≤20% +3350 µm ≥40% +3350+2800um ≥70% -2360 µm ≤3%
F7 +4750 µm 0 +3350 µm ≤20% +2800 µm ≥40% +2800+2360um ≥70% -2000 µm ≤3%
F8 +4000 µm 0 +2800 µm ≤20% +2360 µm ≥45% +2360+2000um ≥70% -1700 µm ≤3%
F10 +3350 µm 0 +2360 µm ≤20% +2000 µm ≥45% +2000+1700um ≥70% -1400µm ≤3%
F12 +2800 µm 0 +2000 µm ≤20% +1700 µm ≥45% +1700+1400um ≥70% -1180 µm ≤3%
F14 +2360 µm 0 +1700 µm ≤20% +1400 µm ≥45% +1400+1180um ≥70% -1000 µm ≤3%
F16 +2000 µm 0 +1400 µm ≤20% +1180 µm ≥45% +1180+1000um ≥70% -850 µm ≤3%
F20 +1700 µm 0 +1180 µm ≤20% +1000 µm ≥45% +1000+850um ≥70% -710 µm ≤3%
F22 +1400 µm 0 +1000 µm ≤20% +850 µm ≥45% +850+710um ≥70% -600 µm ≤3%
F24 +1180 µm 0 +850 µm ≤25% +710 µm ≥45% +710+600um ≥65% -500 µm ≤3%
F30 +1000 µm 0 +710 µm ≤25% +600 µm ≥45% +600+500um ≥65% -425 µm ≤3%
F36 +850 µm 0 +600 µm ≤25% +500 µm ≥45% +500+425um ≥65% -355 µm ≤3%
F46 +600 µm 0 +425um ≤30% +355 µm ≥40% 355+300um ≥65% -250 µm ≤3%
F54 +500 µm 0 +355 µm ≤30% +300 µm ≥40% +300+250um ≥65% -212um ≤3%
F60 +425um 0 +300 µm ≤30% +250 µm ≥40% 250+212um ≥65% -180 µm ≤3%
F70 +355 µm 0 +250 µm ≤25% +212um ≥40% +212+180um ≥65% -150 µm ≤3%
F80 +300 µm 0 +212um ≤25% +180 µm ≥40% +180+150um ≥65% -125um ≤3%
F90 +250 µm 0 +180 µm ≤20% +150 µm ≥40% +150+125um ≥65% -106 µm ≤3%
F100 +212um 0 +150 µm ≤20% +125um ≥40% +125+106um ≥65% -75 µm ≤3%
F120 +180 µm 0 +125um ≤20% ≥40% ≥40% +106+90um ≥65% -63um ≤3%
F150 +150 µm 0 +106um ≤15% +75um ≥40% +75+63um ≥65% -45 µm ≤3%
F180 +125um 0 +90 µm ≤15% +75um * +75+63um ≥40% -53um *
F220 +106um 0 +75um ≤15% +63um * +63+53um ≥40% -45 µm *
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