Polvere lucidante ottica FO per la lucidatura di wafer da 12 pollici
La polvere lucidante ottica FO è un abrasivo composito ad alta precisione, appositamente ottimizzato per la lavorazione di planarizzazione ultrafine di wafer semiconduttori da 12 pollici. Grazie alla sua formula composita modificata di allumina e zirconia, presenta una distribuzione uniforme delle particelle, una durezza moderata e stabile e un’eccellente capacità di sospensione, soddisfacendo perfettamente i rigorosi requisiti di lucidatura CMP dei wafer di grandi dimensioni.
Questo prodotto è ideale per la lucidatura di precisione dell’intero processo di produzione di wafer di silicio da 12 pollici, wafer di arseniuro di gallio, wafer di fosfuro di indio e altri semiconduttori composti. Rimuove efficacemente micro-difetti superficiali, tracce di taglio e irregolarità di strato senza causare micro-graffi, fossette o residui di tensione superficiale. Consente una planarizzazione superficiale estremamente precisa e migliora notevolmente la planarità, il parallelismo e la resa complessiva dei wafer di grande diametro.
Grazie alla stabilità del lotto e alla velocità di rimozione del materiale controllabile, si adatta alla produzione di massa automatizzata di wafer da 12 pollici. Può sostituire perfettamente le polveri lucidanti di alta gamma importate, supportando specifiche di particelle personalizzate. Ideale per la produzione di semiconduttori, la lavorazione di substrati per chip optoelettronici e altri scenari ad alta precisione, rappresenta un materiale di lucidatura centrale economico e affidabile per la produzione di wafer di grandi dimensioni.
Proprietà fisiche e composizione chimica della polvere lucidante ottica %-FO per la lucidatura di wafer da 12 pollici
| Articolo | Misurare | Peso specifico c(g/cm³) | Sostanza chimica (%) | ||||
| Al2O3 | SiO2 | Fe2O3 | TiO2 | ZrO2 | |||
| FO | #800-#1200 | ≥3,90 | ≥45,0 | ≤20,0 | ≤0,5 | ≤2,0 | ≤33,0 |
| #1500-#3000 | ≥3,90 | ≥40,5 | ≤20,0 | ≤0,7 | ≤2,0 | ≤33,0 | |
Distribuzione granulometrica (PSD) della polvere lucidante ottica FO per la lucidatura di wafer da 12 pollici
| Misurare | D0 | D3 | D50 | D94 |
| #800 | ≤32,0 | ≤27,0 | 11,3±0,9 | ≥6,5 |
| #1000 | ≤27,0 | ≤23,0 | 9,4±0,8 | ≥5.0 |
| #1200 | ≤23,0 | ≤20,0 | 7,1±0,7 | ≥4.0 |
| #1500 | ≤19,0 | ≤17,0 | 5,5±0,5 | ≥3.0 |
| #2000 | ≤15,0 | ≤14,0 | 4,5±0,4 | ≥2.0 |
| #3000 | ≤12,0 | ≤11,0 | 3,6±0,4 | ≥1,5 |
Micropolvere ottica FO – Principali applicazioni
–Rettifica e lucidatura di wafer di semiconduttori
–Finitura superficiale di vari tipi di vetro ottico
–Rettifica e lucidatura di lenti, prismi, specchi, filtri, ecc. di cristalli ottici.
–Finitura superficiale di materiali piezoelettrici
Confezionamento di micropolveri ottiche FO
Sacchi in PVC da 10 kg + pallet
